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CIF-Spin Processor轉(zhuǎn)速穩(wěn)定、啟動迅速，旋涂均勻，操作簡單，結(jié)構(gòu)緊湊實用，為實驗室提供了理想的解決方案。廣泛應(yīng)用于微電子、半導(dǎo)體、新能源、化工材料、生物材料、光學(xué)，硅片、載玻片，晶片，基片，ITO 導(dǎo)電玻璃等工藝制版表面涂覆等。

CIF掃描電鏡（SEM）等離子清洗機采用遠(yuǎn)程等離子清洗源，在實現(xiàn)高效、快速清洗的同時，能顯著降低對樣品的轟擊損傷。本設(shè)備主要用于清除SEM、FIB等儀器腔體及樣品表面的碳?xì)浠衔镂廴?，兼容國?nèi)外主流電鏡品牌，保障設(shè)備性能與成像質(zhì)量。

CIF生產(chǎn)型等離子清洗機 CIF 推出的中試生產(chǎn)型等離子清洗機是為研發(fā)型客戶和工業(yè)級客 戶而設(shè)計的等離子體表面處理設(shè)備。配置豐富， 且真空腔體里可分層， 適合大多數(shù)生產(chǎn)場景清洗，活化、刻蝕等應(yīng)用。設(shè)備可在嚴(yán)苛環(huán)境下 穩(wěn)定運行，產(chǎn)品性能穩(wěn)定，樣品處理重復(fù)性、一致性好。

CIF烤膠機是一種控溫加熱 設(shè)備。主要用于半導(dǎo)體硅片， 載玻片，晶片，基片，ITO 導(dǎo) 電玻璃等工藝的制版的表面涂 覆后薄膜烘干、固化。

Spin Coater勻膠機進(jìn)行滴膠就是簡單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心，滴膠量為1-10ml不等。滴膠的多少應(yīng)根據(jù)光刻膠的粘度和基片的大小來確定。粘度比較高和/或基片比較大，往往需要滴較多的膠，以保證在高速旋轉(zhuǎn)階段整個基片上都涂到膠。

CIF 推出的旋涂機系列產(chǎn)品轉(zhuǎn)速穩(wěn)定、啟動迅速，旋涂均勻，操作簡單，結(jié)構(gòu)緊湊實用，CIF勻膠旋涂儀為實驗室提供了理想的解決方案。

紫外臭氧清洗機（UVO），是一種簡單，經(jīng)濟，快速高效的材料表面清洗設(shè)備，能快速去除大多數(shù)無機基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等）上的有機污染物。CIF推出的紫外臭氧清洗機系列產(chǎn)品采用長壽命UV石英低壓汞蒸汽格柵燈，樣品臺高度可調(diào)，可選加熱控溫，以便達(dá)到Z佳清洗效果。

CIF粉體專用等離子清洗機，專為粉末、顆粒等微細(xì)材料設(shè)計。它突破了傳統(tǒng)真空等離子設(shè)備在處理粉體樣品時的技術(shù)瓶頸，可高效處理微米乃至納米級別的超細(xì)粉體，同時兼容常規(guī)材料的高品質(zhì)清洗與表面處理需求。